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                          KRi 射频离子源 RFICP 220
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                          KRi 射频离子源 RFICP 220

                          KRi 射频离子源 RFICP 220
                          上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 220 高能量栅极离子源, 适用于离子溅镀, 离子沉积和离子蚀刻. 在离子束溅射工艺中, 射频离子源 RFICP 220 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现完美的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 最佳的离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 标准配置下射频离子源 RFICP 220 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 800 mA.

                          KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:

                          型号

                          RFICP 220

                          Discharge 阳极

                          RF 射频

                          离子束流

                          >800 mA

                          离子动能

                          100-1200 V

                          栅极直径

                          20 cm Φ

                          离子束

                          聚焦, 平行, 散射

                          流量

                          10-40 sccm

                          通气

                          Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

                          典型压力

                          < 0.5m Torr

                          长度

                          30 cm

                          直径

                          41 cm

                          中和器

                          LFN 2000


                          KRI 射频离子源 RFICP 220 应用领域:
                          预清洗
                          表面改性
                          辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,
                          溅镀和蒸发镀膜 PC
                          离子溅射沉积和多层结构 IBSD
                          离子蚀刻 IBE

                          若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请参考以下联络方式
                          上海伯东: 叶小姐                                  台湾伯东: 王小姐
                          T: +86-21-5046-3511 ext 109             T: +886-3-567-9508 ext 161
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