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                          KRI 考夫曼离子源 KDC 系列
                          阅读数: 6964

                          KRI 考夫曼离子源 KDC 系列

                          美国 KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列
                          上海伯东美国原装进口考夫曼离子源 KDC 系列, 加热灯丝产生电子, 是典型的考夫曼型离子源, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流.
                          美国 KRI 考夫曼公司新升级 Gridded KDC 系列离子源, 新的特性包含自对准离子光学和开关式电源控制. 考夫曼离子源 KDC 系列包含多种不同尺寸的离子源满足各类应用. 考夫曼离子源 KDC 提供一套完整的方案包含考夫曼离子源, 电子中和器, 电源供应器等等可以直接整合在各类真空设备中, 例如实验室小型研发, 镀膜机, load lock, 溅射系统, 卷绕镀膜机和线性镀膜.

                          美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 特性:
                          通过加热灯丝产生电子
                          低电流高能量宽束型离子源

                          美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 应用:
                          辅助镀膜(光学镀膜) IBAD
                          溅镀&蒸镀 PC
                          表面改性, 激活 SM
                          沉积 DD
                          离子溅射沉积和多层结构 IBSD
                          离子蚀刻 IBE
                           

                          美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 技术参数:

                          型号

                          KDC 10

                          KDC 40

                          KDC 75

                          KDC 100

                          KDC 160

                          Discharge 阳极

                          DC 电流

                          DC 电流

                          DC 电流

                          DC 电流

                          DC 电流

                          离子束流

                          >10 mA

                          >100 mA

                          >250 mA

                          >400 mA

                          >650 mA

                          离子动能

                          100-1200 V

                          100-1200 V

                          100-1200 V

                          100-1200 V

                          100-1200 V

                          栅极直径

                          1 cm Φ

                          4 cm Φ

                          7.5 cm Φ

                          12 cm Φ

                          16 cm Φ

                          离子束

                          聚焦, 平行, 散射

                           

                          流量

                          1-5 sccm

                          2-10 sccm

                          2-15 sccm

                          2-20 sccm

                          2-30 sccm

                          通气

                          Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

                          典型压力

                          < 0.5m Torr

                          < 0.5m Torr

                          < 0.5m Torr

                          < 0.5m Torr

                          < 0.5m Torr

                          长度

                          11.5 cm

                          17.1 cm

                          20.1 cm

                          23.5 cm

                          25.2 cm

                          直径

                          4 cm

                          9 cm

                          14 cm

                          19.4 cm

                          23.2 cm

                          中和器

                          灯丝


                          1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

                          若您需要进一步的了解考夫曼离子源, 请参考以下联络方式
                          上海伯东: 叶小姐                                  台湾伯东: 王小姐
                          T: +86-21-5046-3511 ext 109             T: +886-3-567-9508 ext 161
                          F: +86-21-5046-1490                          F: +886-3-567-0049
                          M: +86 1391-883-7267                       M: +886-939-653-958
                          上海伯东版权所有, 翻拷必究!

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