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                          KRI 考夫曼离子源 KDC 10
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                          KRI 考夫曼离子源 KDC 10

                          KRI 考夫曼离子源 KDC 10
                          上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 10: 考夫曼型离子源 Gridded 系列最小型号的离子源. 适用于集成在小型的真空设备中, 例如预清洗, 离子溅射, 离子蚀刻. 在 <1000eV 低能量, 通 Ar 氩气时离子蚀刻的能力显著提高.KDC 10 离子源低损伤, 宽束设计, 低成本等优点广泛应用在显微镜领域, 标准配置下 KDC 10 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 10mA.
                          考夫曼离子源 KDC10
                           KRI 考夫曼离子源 KDC 10 技术参数

                          型号

                          KDC 10

                          供电

                          DC magnetic confinement

                           - 阴极灯丝

                          1

                           - 阳极电压

                          0-100V DC

                           - 栅极直径

                          1cm

                          中和器

                          灯丝

                          电源控制

                          KSC 1202

                          配置

                          -

                           - 阴极中和器

                          Filament, Sidewinder Filament  或LFN 1000

                           - 架构

                          移动或快速法兰

                           - 高度

                          4.5'

                           - 直径

                          1.52'

                           - 离子束

                          集中
                          平行
                          散设

                           -加工材料

                          金属
                          电介质
                          半导体

                           -工艺气体

                          惰性
                          活性
                          混合

                           -安装距离

                          2-12”

                           - 自动控制

                          控制4种气体


                          KRI 考夫曼离子源 KDC 10 应用领域
                          离子清洗, 显微镜抛光 IBP
                          溅镀和蒸发镀膜 PC
                          辅助镀膜(光学镀膜) IBAD
                          表面改性, 激活 SM
                          离子溅射沉积和多层结构 IBSD
                          离子蚀刻 IBE

                          若您需要进一步的了解上海伯东考夫曼离子源, 请参考以下联络方式
                          上海伯东: 叶小姐                                   台湾伯东: 王小姐
                          T: +86-21-5046-3511 ext 109              T: +886-3-567-9508 ext 161
                          F: +86-21-5046-1490                            F: +886-3-567-0049
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