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                          KRI 考夫曼离子源 KDC 75
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                          KRI 考夫曼离子源 KDC 75

                          KRI 考夫曼离子源 KDC 75
                          上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 75:紧凑栅极离子源,离子束直径 14 cm ,可安装在 8“CF法兰. 适用于中小型腔内, 考夫曼离子源 KDC 75 包含2个阴极灯丝, 其中一个作为备用,KDC 75 提供紧密聚焦的电子束特别适合溅射镀膜. 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 250 mA.
                           

                          KRI 考夫曼离子源 KDC 75 技术参数

                          型号

                          KDC 75 / KDC 75L(低电流输出)

                          供电

                          DC magnetic confinement

                           - 阴极灯丝

                          2

                           - 阳极电压

                          0-100V DC

                          电子束

                          OptiBeam™

                           - 栅极

                          专用, 自对准

                           -栅极直径

                          7.5 cm

                          中和器

                          灯丝

                          电源控制

                          KSC 1212 或 KSC 1202

                          配置

                          -

                           - 阴极中和器

                          Filament, Sidewinder Filament  或LFN 2000

                           - 安装

                          移动或快速法兰

                           - 高度

                          7.9'

                           - 直径

                          5.5'

                           - 离子束

                          聚焦
                          平行
                          散设

                           -加工材料

                          金属
                          电介质
                          半导体

                           -工艺气体

                          惰性
                          活性
                          混合

                           -安装距离

                          6-24”

                           - 自动控制

                          控制4种气体

                          * 可选: 一个阴极灯丝; 可调角度的支架

                          KRI 考夫曼离子源 KDC 75 应用领域
                          溅镀和蒸发镀膜 PC
                          辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
                          表面改性, 激活 SM
                          离子溅射沉积和多层结构 IBSD
                          离子蚀刻 IBE


                          客户案例: 超高真空离子刻蚀机 IBE, 真空度 5E-10 torr, 系统配置
                          美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 75
                          考夫曼离子源 KDC 75

                           

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