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                          KRi 射频离子源 RFICP 100
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                          KRi 射频离子源 RFICP 100

                          KRI 射频离子源 RFICP 100
                          上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼型离子源 RFICP 100 紧凑设计, 适用于离子溅镀和离子蚀刻. 小尺寸设计但是可以输出 >400 mA 离子流. 考夫曼型离子源 RFICP 100 源直径19cm 安装在10”CF 法兰, 在离子溅镀时, 离子源配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现完美的薄膜特性. 在离子刻蚀工艺中, 离子源与离子光学配合, 蚀刻更均匀. 标准配置下 RFICP 100 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以达到 400 mA.

                          KRI 射频离子源 RFICP 100 技术参数

                          型号

                          RFICP 100

                          Discharge 阳极

                          RF 射频

                          离子束流

                          >350 mA, 可以达到 400 mA

                          离子动能

                          100-1200 V

                          栅极直径

                          10 cm Φ

                          离子束

                          聚焦, 平行, 散射

                          流量

                          5-30 sccm

                          通气

                          Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

                          典型压力

                          < 0.5m Torr

                          长度

                          23.5 cm

                          直径

                          19.1 cm

                          中和器

                          LFN 2000

                          KRI 射频离子源 RFICP 100 应用领域
                          预清洗
                          表面改性
                          辅助镀膜(光学镀膜) IBAD,
                          溅镀和蒸发镀膜 PC
                          离子溅射沉积和多层结构 IBSD
                          离子蚀刻 IBE

                          客户案例: 超高真空离子刻蚀机 IBE, 真空度 5E-10 torr, 系统配置如下
                          美国 KRI 射频离子源 RFICP 100
                          美国 HVA 真空闸阀
                          德国 Pfeiffer 分子泵 HiPace 2300
                          射频离子源

                          1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

                          若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请参考以下联络方式
                          上海伯东: 叶小姐                                  台湾伯东: 王小姐
                          T: +86-21-5046-3511 ext 109             T: +886-3-567-9508 ext 161
                          F: +86-21-5046-1490                          F: +886-3-567-0049
                          M: +86 1391-883-7267                       M: +886-939-653-958
                          上海伯东版权所有, 翻拷必究!

                           

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