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                          霍尔离子源 eH 3000
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                          霍尔离子源 eH 3000

                          KRI 霍尔离子源 eH 3000
                          上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 3000 最适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上最高效, 提供最高离子束流的离子源.
                          尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6”
                          放电电压 / 电流: 50-300V / 20A
                          操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

                          KRI 霍尔离子源 eH 3000 特性
                          水冷 - 加速冷却
                          可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时,最大限度地减少?;奔? 即插即用备用阳极
                          宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
                          多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便
                          高效的等离子转换和稳定的功率控制

                          KRI 霍尔离子源 eH 3000 技术参数

                          型号

                          eH3000 / eH3000L / eH3000M / eH3000LE

                          供电

                          DC magnetic confinement

                            - 电压

                          50-250V VDC

                            - 离子源直径

                          ~ 7 cm

                            - 阳极结构

                          ??榛?/p>

                          电源控制

                          eHx-25020A

                          配置

                          -

                           - 阴极中和器

                          Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

                           - 离子束发散角度

                          > 45° (hwhm)

                            - 阳极

                          标准或 Grooved

                           - 水冷

                          前板水冷

                           - 底座

                          移动或快接法兰

                           - 高度

                          4.0'

                           - 直径

                          5.7'

                           - 加工材料

                          金属
                          电介质
                          半导体

                           - 工艺气体

                          Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

                           - 安装距离

                          16-45”

                           - 自动控制

                          控制4种气体

                          * 可选: 可调角度的支架;

                          KRI 霍尔离子源 eH 3000 应用领域
                          溅镀和蒸发镀膜 PC
                          辅助镀膜 ( 光学镀膜 ) IBAD
                          表面改性, 激活 SM
                          直接沉积 DD

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