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                          KRi 射频离子源 RFICP 380
                          阅读数: 3530

                          KRi 射频离子源 RFICP 380

                          大口径射频离子源 RFICP 380
                          上海伯东美国 KRI 大口径射频离子源 RFICP 380, 3层栅极设计, 栅极口径 38cm, 提供离子动能 100-1200eV 宽束离子束, 套装包含离子源本体和电源控制器.
                          大口径射频离子源 RFICP 380-------------- 离子源自动控制器 --------------   -------- 射频离子源 RFICP 380 本体 ----

                          射频离子源 RFICP 380 特性
                          1. 放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长. 2kW & 1.8 MHz, 射频自动匹配
                          2. 离子源结构??榛杓?br /> 3. 离子光学, 自对准技术, 准直光束设计, 自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行
                          4. 全自动控制器
                          5. 离子束动能 100-1200eV

                          射频离子源 RFICP 380 技术规格:

                          阳极

                          电感耦合等离子体
                          2kW & 1.8 MHz
                          射频自动匹配

                          最大阳极功率

                          >1kW

                          最大离子束流

                          > 1000mA

                          电压范围

                          100-1500V

                          离子束动能

                          100-1200eV

                          气体

                          Ar, O2, N2,其他

                          流量

                          5-50sccm

                          压力

                          < 0.5mTorr

                          离子光学, 自对准

                          OptiBeamTM

                          离子束栅极

                          38cm Φ

                          栅极材质

                          钼或石墨

                          离子束流形状

                          平行,聚焦,散射

                          中和器

                          LFN 2000

                          高度

                          38.1 cm

                          直径

                          58.2 cm

                          锁紧安装法兰

                          12”CF


                          射频离子源 RFICP 380 尺寸:
                          射频离子源尺寸

                          大口径射频离子源典型应用:
                          射频离子源安装在 1650 mm 蒸镀机中, 实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean, 完成 LED-DBR 镀膜生产
                          射频离子源
                          在高倍显微镜下检视脱膜测试
                          上海伯东RFICP325脱模测试

                          --------- 使用其他品牌离子源---     --------------------- 使用美国 KRI 射频离子源 ----------------------

                          从上图可以清楚看出, 使用其他品牌离子源, 样品存在崩边的问题; 使用上海伯东美国 KRI 射频离子源, 样品无崩边


                          1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

                          若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请参考以下联络方式
                          上海伯东: 叶小姐                                  台湾伯东: 王小姐
                          T: +86-21-5046-3511 ext 109             T: +886-3-567-9508 ext 161
                          F: +86-21-5046-1490                          F: +886-3-567-0049
                          M: +86 1391-883-7267                       M: +886-939-653-958
                          上海伯东版权所有, 翻拷必究!

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