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                          霍尔离子源 eH 200
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                          霍尔离子源 eH 200

                          KRI 霍尔离子源 eH 200
                          上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH200 是霍尔离子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本设计离子源. 霍尔离子源 eH200 适用于小型真空腔内, 例如研发分析, 薄膜沉积和离子清洗. 霍尔离子源 eH200 操作简单是理想的生产工具.

                          KRI 霍尔离子源 eH 200 技术参数:

                          型号

                          eH 200

                          供电

                          DC magnetic confinement

                            - 电压

                          40-300V VDC

                            - 离子源直径

                          ~ 2 cm

                            - 阳极结构

                          模块化

                          电源控制

                          eHx-3005A

                          配置

                          -

                            - 阴极中和器

                          Filament or Hollow Cathode

                            - 离子束发散角度

                          > 45° (hwhm)

                            - 阳极

                          标准或 Grooved

                            - 水冷

                            - 底座

                          移动或快接法兰

                            - 高度

                          2.0'

                            - 直径

                          2.5'

                            -加工材料

                          金属
                          电介质
                          半导体

                            -工艺气体

                          Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

                            - 安装距离

                          6-24”

                            - 自动控制

                          控制4种气体

                          * 可选: 可调角度的支架; Filamentless; Sidewinder

                          KRI 霍尔离子源 eH 200 应用领域:
                          溅镀和蒸发镀膜 PC
                          辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
                          表面改性, 激活 SM
                          直接沉积 DD

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