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                          KRI 考夫曼离子源

                          1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
                          离子源     霍尔离子源                                           射频离子源                       考夫曼离子源                              离子源自动控制器

                          考夫曼离子源创始人 Dr. Harold Kaufman

                          1926 年在美国出生
                          1951 年加入美国 NASA 路易斯研究中心
                          1971 年考夫曼博士获得美国宇航局杰出服务奖
                          1978 年考夫曼博士成立了 Kaufman & Robinson,Inc 公司, 研发生产商用离子源
                          2016 年入选美国太空总署 Grenn 研究中心名人堂
                          2018 年1月逝世

                          KRI 射频离子源 RFICP 系列

                          射频离子源, 提供高能量, 低浓度的离子束, 单次工艺时间更长, 适合多层膜的制备和离子溅镀镀膜

                          型号

                          RFICP 40

                          RFICP 100

                          RFICP 140

                          RFICP 220

                          RFICP 380

                          离子束流

                          >100 mA

                          >350 mA

                          >600 mA

                          >800 mA

                          >1500 mA

                          离子动能

                          100-1200 V

                          100-1200 V

                          100-1200 V

                          100-1200 V

                          100-1200 V

                          栅极直径

                          4 cm Φ

                          10 cm Φ

                          14 cm Φ

                          20 cm Φ

                          30 cm Φ

                          离子束

                          聚焦, 平行, 散射

                          KRI 考夫曼离子源 KDC 系列

                          离子源通过加热灯丝产生离子束, 低浓度高能量宽束型离子源

                          型号

                          KDC 10

                          KDC 40

                          KDC 75

                          KDC 100

                          KDC 160

                          离子束流

                          >10 mA

                          >100 mA

                          >250 mA

                          >400 mA

                          >650 mA

                          离子动能

                          100-1200 V

                          100-1200 V

                          100-1200 V

                          100-1200 V

                          100-1200 V

                          栅极直径

                          1 cm Φ

                          4 cm Φ

                          7.5 cm Φ

                          12 cm Φ

                          16 cm Φ

                          离子束

                          聚焦, 平行, 散射

                          KRI 霍尔离子源 eH 系列

                          霍尔离子源无栅极, 高浓度, 低能量宽束型离子源

                          型号

                          eH 200

                          eH 400

                          eH 1000

                          eH 2000

                          eH 3000

                          离子束流

                          2A

                          5A

                          10A

                          10A

                          20A

                          离子动能

                          30-300 V

                          50-300 V

                          100-300 V

                          50-250 V

                          50-250 V

                          栅极直径

                          2.5”

                          3.7”

                          5.7”

                          5.7”

                          9.7”

                          离子束

                          > 45°散射

                          KRi 射频离子源 RFICP 220

                          射频离子源 RFICP 220
                          尺寸:直径= 16.1“ 高= 11.8”
                          离子束动能: 100-1200 V
                          电流: >1A

                          射频离子源 RFICP220

                          KRi 射频离子源 RFICP 380

                          KRI 大面积射频离子源 RFICP 380, 离子束流 >1500 mA, 离子动能 100-1200 V

                          KRI 霍尔离子源 eH 400

                          霍尔离子源 eH 400
                          尺寸:直径= 3.7“ 高= 3”
                          离子束动能: 50-300eV
                          电流: 5a

                          霍尔离子源 eh400

                          KRI 霍尔离子源 eH 1000

                          霍尔离子源 eH 1000
                          尺寸:直径= 5.7“ 高= 5.5”
                          离子束动能: 50-300V
                          电流: 10A

                          霍尔离子源

                          KRi 射频离子源 RFICP 100

                           KRI 射频离子源 RFICP 100 紧凑设计,适用于离子溅镀和离子蚀刻.小尺寸设计但是可以输出最大 400 mA 离子流

                          KRI 考夫曼离子源 KDC 75

                          考夫曼离子源 KDC 75
                          尺寸: 直径= 5.5“ 高= 7.9”
                          离子束动能: 100-1200 eV
                          电流: 250 mA

                          考夫曼离子源

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