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                          KRI 考夫曼离子源电源与控制器

                          1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
                          离子源     霍尔离子源                                           射频离子源                       考夫曼离子源                              离子源自动控制器

                          KRI 考夫曼离子源自动控制器 Power Supply and Control

                          考夫曼离子源 Power Supply and Power Pack Controllers 功率控制器有多个模组组成, 模组的特性取决于功率, 频率, 电压, 电流和控制方式.

                          KRI 霍尔离子源控制器成功替代 Veeco Commonwealth 控制器

                          美国考夫曼公司霍尔离子源控制器完全替代 Veeco Commonwealth 控制器, 不需更改任何镀膜机计算机程序及相关设定即可直接运做!

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